机译:产生CmOs像素传感器的带电粒子检测性能 采用0.18微米工艺制造,具有高电阻率外延层
机译:具有高电阻率外延层的以0.18μm工艺生产的CMOS像素传感器的带电粒子检测性能
机译:设计用于带电粒子检测的快速二进制读出CMOS有源像素传感器芯片的性能
机译:采用高电阻率外延层的0.18μm塔式爵士技术的单片像素传感器的光束测试结果
机译:Explorer-0:采用180 nm CMOS工艺的单片像素传感器,具有18 µm厚的高电阻率外延层
机译:使用CMOS有源像素传感器的片上空间图像处理。
机译:使用烃类分子离子植入双外延Si晶片减少CMOS图像传感器像素中的暗电流
机译:设计用于带电粒子检测的快速二进制读出CMOS有源像素传感器芯片的性能